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NanoFrazor纳米3D结构直写机的问世,源于发明STM和AFM的IBM苏黎世研发中心,是其在纳米加工技术的新研究成果。NanoFrazor纳米3D结构直写机次将纳米尺度下的3D结构直写工艺快速化、稳定化。 NanoFrazor采用直径为5nm的探针,通过静电力控制实现直写3D高精度直写,并通过悬臂一侧的热传感器实现实时的形貌探测。相对于其他制备技术如电子束曝光/光刻技术(EBL), 聚焦离子束刻蚀(FIB)有 3D纳米直写、无临近效应、无需显影,实时观察直写效果、无电子/离子损伤等特点。
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