高温高压光学浮区炉-技术介绍

  1. 类别:仪器样本
  2. 上传人:QUANTUM量子科学
  3. 上传时间:2020/3/2 17:10:56
  4. 文件大小:1372K
  5. 下载次数:5
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简介:

国SciDre公司推出的高温高压光学浮区炉能够提供2200–3000℃以上的生长温度,晶体生长腔大压力可达300bar,甚至10-5mbar的高真空。适用于生长各种超导材料单晶,介电和磁性材料单晶,氧化物及金属间化合物单晶等。

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