CMP浆料的快速稳定性研究

  1. 类别:仪器样本
  2. 上传人:上海奥法美嘉
  3. 上传时间:2021/3/16 10:28:22
  4. 文件大小:438K
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简介:

由于芯片抛光浆料具有很高的技术要求,配方处于完全保密状态,我国只有少数企业掌握部分低端技术,且一直存在稳定性无法保证的难题,所以在芯片等高端领域CMP浆料则一直依赖进口。 本文利用LUM加速型稳定性/分散体分析仪对两款不同配方的金刚石CMP浆料进行快速稳定性研究。

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