null检测 | 电感耦合等离子发射光谱法测定气体中的痕量金属杂质-珀金埃尔默企业管理（上海）有限公司

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随着集成电路的迅速发展，集成度越来越高，半导体芯片的生产对原材料的质量提出了更高的要求。在集成电路的制作工艺中常常会用到各种不同种类的气体，气体中不可避免的含有少量的金属杂质，这些杂质会很容易被其它介质吸收，一旦吸收，就会增加芯片表面的金属离子浓度，严重的影响器件的性能和成品率[1]。六十年代初，对气体中金属元素的分析采用分离法和比色法来测定[2]，六十年代未，由于人们对环境大气污染的广泛重视，许多实验室都采用了准确度好、灵敏度高、操作简单的原子吸收法来测定。随着科学技术（如等离子体技术和CCD技术）的发展和分析领域的不断需求，在仪器分析中，既能满足生产需要，又无化学干扰和物理干扰，操作方便，分析速度快，选择性强，灵敏度高，准确度好，而且又能快速同时分析样品中的金属元素，大都采用等离子发射光谱法。采用等离子发射光谱法测定气体中的痕量金属杂质，至今未见有文献报导。本文就是采用等离子发射光谱法测定气体中的痕量金属杂质，通过反复实验，摸索实验条件，我们建立了等离子发射光谱法测定气体中的痕量金属杂质的方法，本方法操作简单，准确可靠，可以满足于对气体中的痕量金属杂质的测定。

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文献贡献者

珀金埃尔默企业管理（上海）有限公司

钻石会员丨第22年

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