使用NexION 5000 ICP-MS 分析集成电路制造行业常用有机溶剂中的金属杂质

2021/04/30   下载量： 21 次

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应用领域 半导体
检测样本 集成电路
检测项目 化学性质>杂质含量
参考标准 无

本应用文章描述了一种采用NexION®5000多重四极杆ICP-MS4系统分析IPA、PGMEA和NMP中46种元素的方法。该平台是业界首款拥有四组四极杆的平台，可提供极低的背景等效浓度（BEC）和良好的检出限，能够对半导体行业的酸性、碱性和有机化学制品中的极低水平污染物进行定量。

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本应用文章描述了一种采用NexION®5000多重四极杆ICP-MS4系统分析IPA、PGMEA和NMP中46种元素的方法。该平台是业界首款拥有四组四极杆的平台，可提供极低的背景等效浓度（BEC）和良好的检出限，能够对半导体行业的酸性、碱性和有机化学制品中的极低水平污染物进行定量。

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文献贡献者

珀金埃尔默企业管理（上海）有限公司
钻石会员 丨 第22年
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