牛津仪器2011微纳制备工艺技术研讨会在京举行

牛津仪器科技（上海）有限公司

2011/03/16 09:56

　　仪器信息网讯 2011年3月11日-12日，牛津仪器2011微纳制备工艺技术研讨会暨英国牛津仪器等离子技术公司客户会在北京西郊宾馆举行。此次研讨会以“纳米电子：生长、沉积与蚀刻”为主题，由英国牛津仪器离子技术公司主办，中科院半导体所协办，吸引了110余名来自半导体领域的用户，仪器信息网作为独家特邀媒体参加了本次研讨会。

　　研讨会现场

　　英国牛津仪器等离子技术公司全球销售总监 Mark Vosloo先生

　　牛津仪器等离子技术公司全球销售总监Mark Voslo先生首先致欢迎辞并对牛津仪器等离子技术进行了简要介绍，他说到：牛津仪器等离子技术公司是英国牛津仪器公司的子公司，是微纳制备仪器的生产商，公司提供各类刻蚀、沉积和生长系统，可以为材料的微米、纳米级工程提供工艺方法，产品广泛应用于半导体、光电子、MEMS和微流体、高质量光学涂层及其他多种微纳技术领域。本次研讨会是英国牛津仪器等离子技术公司在中国大陆举办的首场研讨会，未来我们还将联合重点研究所及大学举办更多的研讨会，促进公司与用户之间的交流。

　　会上，来自牛津仪器、中科院半导体所、中科院物理所、3M公司等企业或科研单位的专家分别做报告，内容涉及硅蚀刻、III - V族聚合物蚀刻、RIE-ICP干法蚀刻、ALD技术、ICP CVD/PECVD、纳米蚀刻等方面的技术工艺及应用过程中遇到的问题及解决方法。

　　表1 牛津仪器2011微纳制备工艺技术研讨会报告名单

报告人	单位或公司	报告题目
杨富华	中科院半导体所	微纳技术在中科院半导体所的应用
Robert Gunn	英国牛津仪器公司	硅蚀刻综述
Ligang Deng	英国牛津仪器公司	III - V族聚合物蚀刻综述
樊中朝	中科院半导体所	运用Plasmalab System 100对III - V族化合物半导体进行干法刻蚀
张俊颖		II - VI族化合物RIE-ICP干法蚀刻与PECVD的应用
方起	英国牛津仪器公司	ALD技术综述
Deirdre Olynick	美国劳伦斯伯克力国家实验室	纳米蚀刻
Robert Gunn	英国牛津仪器公司	ICP CVD/PECVD综述
王晓东	中科院半导体所	运用Optofab ^®3000光学镀膜系统进行介质涂层的制备
夏晓翔	中科院物理所	运用ICP-RIE蚀刻技术进行纳米加工
Haiping Zhou	英国Glasgow大学	常温下运用ICP-CVD加工纳米尺度器件

　　研讨会现场气氛活跃，与会人员踊跃提问。此外，本次研讨会还设有主题讨论环节，牛津仪器工作人员就用户的提问都进行了细致解答。研讨会结束后，与会人员还参观了中科院半导体所。

　　现场讨论

　　附录：牛津仪器公司

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