2008年戴安离子色谱用户技术交流会第二轮通知

赛默飞色谱与质谱

2008/09/24 23:16
TA的动态

         2008 年戴安公司离子色谱用户技术交流会暨第十二届全国离子色谱学术交流会联合通知
        两年一度的戴安公司离子色谱用户会定于2008 年11 月4 日至8 日在美丽的海滨城市厦门举行，本次用户会将与第十二届全国离子色谱学术报告会联合举办，包括：大会学术交流、戴安新技术讲座、戴安应用支持及产品维护用户见面会、参观等丰富多彩的活动，具体活动安排以及参会方式请见如下联接：

img1.17img.cn/17img/old/NewsImags/File/2008/9/2008092423163232485.pdf

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