iCAP Qc ICPMS 测定高纯氧化钼中 Cd 等痕量杂质

2018/03/09   下载量： 4 次

方案摘要

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应用领域 钢铁/金属
检测样本 钼
检测项目 含量分析>镉元素
参考标准 iCAP Qc ICPMS

高灵敏度 iCAP Qc ICPMS 测定高纯氧化钼中 Cd 等痕量元 素，通过 Qtegra 自动调谐功能，在 Qcell 加入高流量的 氧气反应，将 MoO 转化为多氧化钼，将干扰质量数进 行迁移，与 Cd 测定同位素分开，从而消除干扰，以满 足高纯氧化钼中镉的测定。

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配置单
方案详情

钼具有耐高温，低膨胀系数，在合金中添加钼能起到耐
热和耐腐蚀作用，并提高合金的强度，用于制造航空和
航天的各种高温部件。尤其对于含高钼的镍基合金，除
了主合金成份外，对于一些杂质元素的控制将严重影响
合金的性能。氧化钼和钼酸盐是化学和石油工业中的优
良催化剂，为保证催化剂的性能也需要对重金属加以严
格的控制。由于镉的所有同位素都会受到氧化钼的一价
多原子离子干扰，本方法通过 CCT 氧气反应将氧化钼转
化为多氧化钼从而消除了对镉的干扰。

高灵敏度 iCAP Qc ICPMS 测定高纯氧化钼中 Cd 等痕量元
素，通过 Qtegra 自动调谐功能，在 Qcell 加入高流量的
氧气反应，将 MoO 转化为多氧化钼，将干扰质量数进
行迁移，与 Cd 测定同位素分开，从而消除干扰，以满
足高纯氧化钼中镉的测定。

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文献贡献者

赛默飞色谱与质谱
钻石会员 丨 第23年
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