| 供货周期： | 两周 |
| 品牌： | Allresist |
| 货号： |
特点：
• 双层lift-off工艺的底层胶，不含光敏物质
• 双层工艺配套用上层胶:AR-P 3500 (正)或AR-N 4340(负)
• 在270nm~红外波段，光学透明
• 具有良好的高温稳定性
旋涂曲线：
应用实例：
欢迎致电咨询（电话：010-82867920/21/22），更多光刻胶信息请查看官网：http://www.germantech.com.cn/new/cplook.asp?id=514
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