| 供货周期： | 两周 |
| 品牌： | Allresist |
| 货号： |
特点：
• 用于集成电路加工、lift-off工艺、激光干涉曝光等
• 感光波段：i-line(365nm)、g-line(436nm)
• 化学放大胶，具有非常高的灵敏度
• 高分辨率、高对比度
• 可得到undercut结构，用于lift-off工艺
旋涂曲线：
应用实例：
欢迎致电咨询（电话：010-82867920/21/22），更多光刻胶信息请查看官网：http://www.germantech.com.cn/new/cplook.asp?id=514
相关产品
光刻胶/抗蚀剂_导电胶_耐刻蚀胶
HSQ-光刻胶/SOG
特殊功能光刻胶 AR 300-80 new 增附剂
特殊功能光刻胶 SX AR-PC 5000/41
电子束光刻胶 AR-PC 5090.02, 5091.02（导电胶）
电子束光刻胶 AR-N 7720
电子束光刻胶 AR-N7700
特殊功能光刻胶 SX AR-P 3500/8
电子束光刻胶 AR-N 7520
电子束光刻胶 AR-P 6200（CSAR 62）
电子束光刻胶 AR-P 6510
电子束光刻胶 AR-P 617 (Copolymer PMMA/MA)
电子束光刻胶 PMMA (AR-P 631 ~ 679)
紫外光刻胶 AR-N 4400
紫外光刻胶 AR-N 4600 (Atlas 46)
工商信息
信息已认证
联系方式
详细地址
联系电话
关注
拨打电话
留言咨询
