| 供货周期： | 两周 |
| 品牌： | Allresist |
| 货号： |
特点：
• 用于高分辨电子束曝光、混合曝光等
• 感光波段：e-beam、deep UV(248 nm)、i-line(365 nm)
• 紫外曝光波段： 负胶：248nm~365nm
• 高分辨率(30nm)，高对比度
• 良好的耐干法刻蚀能力
旋涂曲线：
应用实例：
欢迎致电咨询（电话：010-82867920/21/22），更多光刻胶信息请查看官网：http://www.germantech.com.cn/new/cplook.asp?id=514
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