方案摘要
方案下载应用领域 | 材料 |
检测样本 | 薄膜材料 |
检测项目 | 其他 |
参考标准 | 无 |
二氧化硅薄膜具有良好的硬度、光学、介电性质及耐磨、抗侵蚀等特性,在光学、微电子等领域有着广泛的应用前景,是目前国际上广泛关注的功能材料。本文采用岛津扫描探针显微镜(SPM)技术对二氧化硅薄膜样品的表面形貌以及粗糙度进行了表征,对二氧化硅薄膜的制备方法和制备工艺优化提供了一定的指导。
使用岛津扫描探针显微镜(SPM)技术,测定了二氧化硅薄膜样品在不同范围内的表面形貌,并通过计算得到了相应的均方根粗糙度Rq值。测试结果表明形貌图和均方根粗糙度值均可以反映薄膜样品的粗糙度情况,对二氧化硅薄膜的制备方法和制备工艺优化具有一定指导意义。
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