岛津光电子能谱技术表征Ni-NiS/C3N4复合光催化剂

2022/08/09   下载量: 0

方案摘要

方案下载
应用领域 其他
检测样本 其他
检测项目 其他
参考标准

X射线光电子能谱(XPS)技术结合氩离子刻蚀技术可以有效对材料表面以及沿深度方向进行测试,以得到材料结构相关信息,不同的刻蚀模式的选择对结果有较大的影响。本文选用非贵金属Ni桥连NiS / g-C3N4复合材料,采用XPS技术对材料表面进行表征,结合团簇氩离子刻蚀技术对材料进行深度剖析,判断不同元素的化学状态信息。

方案下载
配置单
方案详情

完成了NiSC3N4Ni-NiS/C3N4三种材料的XPS测试,且分别采用单氩离子与团簇氩离子刻蚀模式分别对Ni-NiS/C3N4复合材料进行刻蚀,由测试结果可知,采用团簇氩离子模式可以一定程度避免样品结构的破坏,得到样品沿深度的二维结构信息,结合其他表征证实该催化剂中低价态Ni物种及S物种的存在。岛津Axis Supra具备多模式离子刻蚀枪,通过一键操作便可实现不同模式的选择,提交程序后便可自动进行深度剖析,操作便捷。


上一篇 锂离子充电电池鼓胀气的分析
下一篇 稀土矿中元素的分析-波长色散X射线荧光的应用

文献贡献者

相关仪器 更多
相关方案
更多

相关产品

当前位置: 岛津 方案 岛津光电子能谱技术表征Ni-NiS/C3N4复合光催化剂

关注

拨打电话

留言咨询