使用 Agilent 8900 ICP-MS/MS 在MS/MS 模式下测定超纯半导体级硫酸中的痕量元素

2021/01/31   下载量: 12

方案摘要

方案下载
应用领域 电子/电气
检测样本 电子元器件产品
检测项目
参考标准 /

使用 Agilent 8900 半导体配置 ICP-MS/MS,成功测定了半导体级 H2SO4 中超痕量水平下的 42 种元素。1/10 稀释的 H2SO4 中,20 ppt 水平(Si 为 2 ppb)下的所有元素均获得了优异的加标回收率,证明8900 ICP-MS/MS 方法适用于高纯度工艺化学品的常规分析。使用 ICP-MS/MS 在 MS/MS 模式下采用适当反应池气体条件,避免了质谱干扰问题的出现,这些干扰会阻碍 ICP-QMS 对某些关键元素的测量。8900 ICP-MS/MS 的轴向加速功能明显提高了测定 Ti、Zn 和 P 等原子所需的子离子灵敏度。9.8% H2SO4中的几乎所有分析物均获得了亚 ppt 级 DL 和 BEC。

方案下载
配置单
方案详情

使用 Agilent 8900 半导体配置 ICP-MS/MS,成功测定了半导体级 H2SO4 中超痕量水平下的 42 种元素。1/10 稀释的 H2SO4 中,20 ppt 水平(Si 为 2 ppb)下的所有元素均获得了优异的加标回收率,证明8900 ICP-MS/MS 方法适用于高纯度工艺化学品的常规分析。

使用 ICP-MS/MS 在 MS/MS 模式下采用适当反应池气体条件,避免了质谱干扰问题的出现,这些干扰会阻碍 ICP-QMS 对某些关键元素的测量。8900 ICP-MS/MS 的轴向加速功能明显提高了测定 Ti、Zn 和 P 等原子所需的子离子灵敏度。9.8% H2SO4中的几乎所有分析物均获得了亚 ppt 级 DL 和 BEC。

上一篇 使用 Agilent 5800 ICP-OES 测定固态 电解质锂镧锆钽氧 (LLZTO) 中的 主量元素
下一篇 改善对 37 种脂肪酸甲酯的分析

文献贡献者

相关仪器 更多
相关方案
更多

相关产品

当前位置: 安捷伦 方案 使用 Agilent 8900 ICP-MS/MS 在MS/MS 模式下测定超纯半导体级硫酸中的痕量元素

关注

拨打电话

留言咨询