使用 Agilent 8900 ICP-MS/MS 测定高纯度过氧化氢中的超痕量元素

2021/03/11   下载量: 13

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应用领域 半导体
检测样本 集成电路
检测项目 化学性质>元素分析
参考标准 SEMI C30-1110 – Specifications for Hydrogen Peroxide

采用 Agilent 8900 ICP-MS/MS 可使多种元素(包括 SEMI C30-1110 中规定的所有元素以及其他痕量元素)在高纯 35% 过氧化氢中均以亚 ppt 至ppt 级测出。在 0 ppt 至 50 ppt 浓度范围获得了出色的线性校准曲线。几乎所有元素均获得了亚 ppt 级定量结果,其余元素具有几个 ppt 的检测限(除Si 以外,其检测限为 25 ppt)。在持续 3 小时40 分钟的高纯 35% 过氧化氢样品分析序列中,加标分析物在 10 ppt(S 为 100 ppt)浓度下获得了 1.0%–8.1% RSD 的重现性。结果证明 Agilent 8900 半导体配置 ICP-MS/MS 仪器适用于高纯半导体级试剂和制程化学品的常规分析

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采用 Agilent 8900 ICP-MS/MS 可使多种元素(包括 SEMI C30-1110 中规定的所有元素以及其他痕量元素)在高纯 35% 过氧化氢中均以亚 ppt 至ppt 级测出。在 0 ppt 至 50 ppt 浓度范围获得了出色的线性校准曲线。几乎所有元素均获得了亚 ppt 级定量结果,其余元素具有几个 ppt 的检测限(除Si 以外,其检测限为 25 ppt)。在持续 3 小时40 分钟的高纯 35% 过氧化氢样品分析序列中,加标分析物在 10 ppt(S 为 100 ppt)浓度下获得了 1.0%–8.1% RSD 的重现性。结果证明 Agilent 8900 半导体配置 ICP-MS/MS 仪器适用于高纯半导体级试剂和制程化学品的常规分析

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