分束器和四分之一波长反射镜的质量控制——多层光学镀膜的多角度 UV-Vis-NIR 测量

2024/01/11   下载量: 0

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应用领域 材料
检测样本 薄膜材料
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光学镀膜和镀膜技术经过多年发展,在设计、生产和表征工艺方面已非常成熟。现在,光学镀膜已非常普及,从研究和空间光学到消费品和工业的应用中都能找到它的身影。光学镀膜应用广泛,包括眼镜、建筑和汽车玻璃、照明和灯光系统、显示器、滤光片、专业反射镜、光纤和通信,以及医用光学。光学镀膜的性能取决于镀膜的规格和基底材料。 设计和制造高质量多层光学镀膜不仅需要精确测量最终生产组件,还需要精确测量薄膜层中材料的光学常数。这些测量结果能够用于(有时)非常复杂的多层镀膜的详细设计。在生产结束时和生产过程中的测量结果也可以用于光学镀膜的逆向工程,提供有关设计制造工艺的反馈[1]。逆向工程的主要目的是检测单层参数中的系统误差和随机误差,有助于改善层控制,优化光学镀膜沉积。

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光学镀膜的可靠逆向工程关键取决于对反射率和透射率的准确测量。过去,这类测量局限于垂直入射时的透射率 (T) 和/或接近垂直入射时的反射率 (R) 数据。正如预期的那样,随着镀膜数量的增加,多层逆向工程的不准确性也有所提高。一般而言,通过更多的数据测量可以尽可能减少逆向工程中的不准确性。在一系列入射角 (AOI) 下进行的 T 值和 R 值测量,对于薄膜材料的表征和多层镀膜的逆向工程都很有价值。大多数典型的逆向工程涉及与研究的镀膜相关的垂直或接近垂直入射 T 和R 数据的详细数值分析。虽然该方法在实验上很简单,但由于接近垂直的 T 和 R 数据集中可用的信息有限,加上那些数据集中测量误差的影响,可能会导致结果不可靠[1]。特别是来自宽带反射器的反射率数据或来自宽带防反射 (AR) 镀膜的透射率数据,可以被视为此类低信息数据集的示例。过去,简单的垂直入射 T 值测量可以使用各种分光光度计实现,并且接近垂直入射 R 值测量可通过安装适当的反射附件以类似的方式实现。


本应用简报中使用独特的自动双光束 UV-VIS-NIR 多角度分光光度计 Cary 7000 全能型分光光度计 (UMS) 展示了一种新型多角度光度光谱法,介绍了用于创建光谱分束器的多层镀膜和不同基底上两个 43 层四分之一波长膜堆反射镜的测量示例,以及通过获得的多角度光谱光度数据集实现的逆向工程分析。


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