型号: | S-5500 |
产地: | 日本 |
品牌: | 日立 |
评分: |
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超高分辨率的显微分析对设备有特殊的要求,以便可以得到新的信息及展现纳米世界的秘密。
最新的S-5500完全可以满足这些需要。
技术指标:
二次电子成像分辨率: 0.4nm (30kV) ;1.6nm (1kV)
加速电压: 0.5~30kV
放大倍率: 60X ~ 10,000X (低倍模式) ;
800~2,000,000X(高倍模式)
电子光学
电子枪: 冷场发射电子源
透镜系统: 3级电磁透镜系统
物镜光栏: 可变型 (4孔可选,在真空系统外进行微
调,100-50-50-30um)
消像散线圈: 八极电磁线圈系统
扫描线圈: 2级电磁偏转线圈(高倍模式) ;1级电磁
线圈(低倍模式)
电子束遮挡: 静电型(与扫描线圈同步)
样品台: 侧插式测角台
样品台移动: X:±3.5mm, Y: ±2.0mm; Z: ±0.3mm,
T: ±40°
样品尺寸: 最大5.0mmx9.5mmx3.5mmH (Bulk)
最大2.0mmx6.0mmx5.0mmH (Cross-section)
电子图像移动: ±5um (样品高度=0mm)
检测器: 二次电子检测器
上部背散射电子检测器(可选)
YAG型背散射电子检测器(可选)
BF/DF 双STEM检测器(可选)
STEM检测器(可选)
X射线能谱仪 (可选)
显示系统: 操作系统:Windows XP
显示器:19?LCD
图像显示模式:1,280x960 (全屏模式)
640x480 及320x320 (选区显示)
640x480x2 (双图像显示)
S-5500的独特设计可以保证0.4nm的超高分辨率,从而获得新的信息并展现纳米世界的秘密。
1. 新型的物镜设计可以使其达到世界最高分辨率:0.4nm(30kV)。
2. 保证分辨率为0.4nm (30kV), 1.6nm (1kV)
3. Hitachi的专利技术ExB可以让操作者优化图像中SE和BSE信号的比例
4. 新开发的BF/DF双STEM检测器可以同时显示BF像及DF像。在DF STEM模式中还可以改变检测角度。(可选)
5. 电子光学系统的改进可以不用改变样品位置而同时进行EDS分析及形貌观察。
6. 可以使用与FIB兼容的样品杆。
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