方案摘要
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研究探讨了镜反射红外光谱在纳米材料方面的应用。通过等离子化学气相沉积法(PECVD),制备本征和掺磷的纳米硅薄膜(nc-Si:H),利用镜反射红外光谱研究了本征和掺磷的纳米硅薄膜的光谱特征,通过实验发现这两种薄膜中都存在多氢键合方式,PECVD工艺参数如衬底温度、直流电压和掺杂浓度对薄膜结构具有一定的影响。
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赛默飞分子光谱技术在电子行业分析解决方案
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