方案摘要
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如果二次离子质谱(SIMS)能够降低造价，改进仪器复杂的操作、分析条件，那么这种技术就可能被更广泛运用于半导体制造业中。本文介绍了一种成本较低的小型二次离子质谱仪，用于诊断半导体制造过程中出现的污染问题。利用其快速分析多份砷注入硅片样品，寻找由于离子注入机先前注入其他元素残留而产生污染的证据。通过对这些样品的最表层和表面下约3nm深度的区域下进行分析，发现在所有的样品中都可以检测到硼，但是在其中一个注入机的样品中检测到更高含量的硼和11B同位素，这表明污染物来自离子注入机先前注入物质的残留。总之，这种简化的二次离子质谱可以成为半导体制造业的现场的快速故障诊断工具。
文献贡献者
用新型辉光放电质谱仪测定高纯金属——记忆效应研究
meinhard
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