浸渍提拉镀膜仪文献：在极低提拉速度下制备的二氧化硅和二氧化钛膜上自发形成的图案

2020-05-25 09:37 下载量：1

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Linear patterns were spontaneously formed on the silica and titania dip-coating films prepared from tetramethyl orthosilicate (Si(OCH3)4 ) and titanium tetraisopropoxide (Ti(OC3H7i)4 ) solutions, respectively. In both films, the pattern formation occurred at extremely low substrate withdrawal speeds below 1.0cm/min, where the film thickness increased with decreasing substrate withdrawal speed for dip-coating. The linear patterns on micrometre scale were arranged perpendicular to the substrate withdrawal direction. The values of R Z (10 point height of irregularities) and S (mean spacing of local peaks) of the patterns increased with decreasing substrate withdrawal speed.

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文献贡献者

北京东方德菲仪器有限公司

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