2006年年初，Hynix公司通过我司韩国公司定购了JAI产整套硅晶片脱气采集设备及居里点吹扫捕集热解吸系统，同年4月份，JAI中日韩三方工程师合作在Hynix-ST无锡新厂完成安装调试任务。
海力士半导体株式会社是韩国现代集团2001年分离出来的专业半导体公司，前身为现代电子产业株式会社。海力士半导体是目前世界上最强的半导体制造商，2003年公司在全球DRAM的市场占有率排名中位列第二，为17.9％，在中国市场的占有率排名第一，为41％。04年上半年海力士半导体的销售额为220亿元人民币，营业利润为76亿元人民币。
海力士半导体有限公司和欧洲意法半导体有限公司共同投资20亿美元在江苏省无锡市新区成立了中国最先进的半导体工厂——海力士-意法半导体有限公司，公司计划在2006年建成8英寸、12英寸晶圆生产线各一条，从事记忆芯片制造、封装和测试，成为世界上最先进的半导体工厂。为了实现这一目标，Hynix公司通过我司韩国公司定购了JAI产整套硅晶片脱气采集设备及居里点吹扫捕集热解吸系统，已达到与其韩国工厂生产标准一体化。2006年4月，JAI中日韩三方工程师合作在Hynix-ST无锡新厂完成安装调试任务。
硅晶片脱气采集设备主要用于捕集6寸、8寸或12寸硅晶片表面的挥发性成分(有机污染物)，加热炉采用倒悬方式，最高炉温可达500℃，是硅晶片产品品控部门必不可少的设备。
居里点吹扫捕集热解吸系统主要用于对采样气体进行热解吸并进样到GC/MS。由于使用业界最大容量的PAT吸附管(内容积10ml)，一些体积较小的电子元器件或颗粒装的聚合物都可以直接放入空管内进行吹扫捕集分析。可以说，这是一款可以满足从实验室级别到工业化分析级别要求的仪器。
我们相信随着我国科技水平的发展，对产品质量要求的提高，高端的分析设备将大有用武之地。
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