上海伯东KRI 考夫曼离子源 RFICP 200 HO_价格-伯东公司德国普发真空pfeiffer

上海伯东KRI 考夫曼离子源 RFICP 200 HO

参考价：面议

型号：

RFICP 200 HO

产地：

美国

品牌：

考夫曼

评分：

产品详情

KRI 考夫曼离子源 RFICP 200 HO

KRI Ion Source RFICP 200 HO 是一款大型的有栅极离子源，能够产生高密度的离子束，特别是在 1000 eV 或稍低的能量下获得极高密度的离子束，因此合适于像离子辅助沉积和离子束刻蚀这样的低能量的工艺。因为尺寸的大型化，使它更适用于较大覆盖区域和较高均匀性的要求，因此广泛应用在大型离子辅助的盒式镀膜机和较大尺寸 wafer 的离子刻蚀系统。

KRI Ion Source 有栅极离子源RFICP 200 HO, Gridded RF Ion Source产品规格

Model	RFICP 200 HO
Discharge	RF inductive
Filamentless	Yes
RF power	>1 kW
Ion optics	OptiBeamTM
Grids	Application specific
Alignment	Self-aligned
Neutralizer	Yes (options)
Power controller	RFICP ion Power Pack
Options
Beam Shape	Collimated, convergent, divergent
Water cooled	Yes

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上海伯东 : 罗先生                               台湾伯东 : 王女士
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