2008年5月20号及23号，Veeco公司在北京、上海两地成功地举办了两场光学干涉表征技术研讨会。来着Veeco美国的技术科学家韩森博士及全球产品顾问Wanye Mozer先生全程参加了此次活动。他们针对：MEMS、精密机械加工、汽车、摩擦学、数据存储、半导体等领域做了详细的报告。在北京的研讨会上，我们还安排了NT9100仪器的展示及现场测试活动。
在整场活动中，客户直观地了解到了光学干涉技术及光学轮廓仪在他们领域中的应用，得到他们的赞许。
Veeco公司会持续地开展此类技术研讨会活动，感兴趣的客户请关注我们的网站。
北京研讨会现场
关注
PF-QNM技术揭示质子交换膜电解水阳极催化剂层（ACL）退化机制
Nature communication - 单层二维材料的弹性及拉伸强度
肿瘤组织中ECM硬度如何加剧CD8+ T细胞耗竭
小行星（162173）“龙宫”样本中大分子有机物的纳米红外研究
相关产品
双焦面实时超高分辨系统Bruker3DVutura
多功能双光子成像平台Bruker2pplus
高品质双光子成像系统BrukerInvestigator
场扫描共聚焦成像系统BrukerOpterra II
布鲁克透射电镜专用原位纳米力学系统PI 95
布鲁克电镜专用原位纳米力学测试系统PI 88
布鲁克电镜专用原位纳米力学系统 PI 85L
布鲁克高精度纳米力学测试系统TI Premier
布鲁克高精度纳米力学测试系统TI 980
布鲁克三维光学显微镜Contour Elite
摩擦磨损试验机UMT-TriboLab
布鲁克原子力显微镜Dimension FastScan
探针式表面轮廓仪DektakXT
光学轮廓仪NPFLEX 3D
扫描探针显微镜系统Dimension Edge
关注
拨打电话
留言咨询
