型号: | RTP-6 |
产地: | 日本 |
品牌: | ADVANCE RIKO |
评分: |
![]() ![]() ![]() ![]() ![]() |
RTP-6经济型快速退火炉
RTP-6升温速率可达80℃/s。
RTP-6采用抛物线形的黄金反射面,可均匀热处理6英寸的圆晶。该系统可进行快速的热处理,适合热处理工艺的研究与开发。可用于半导体工艺中硅化物的形成以及半导体化合物的过程退火。
应用:
1. 离子注入后的活化退火
2. 沉积氧化膜的退火
3. 欧姆电极合金化
4. PZT,SBT和其它铁电薄膜的结晶退火
5. 硅化物及自对准硅化物的生成
6. 发光元件,半导体激光基板的热处理
7. 超浅结的生成
8. 铁电电容器沉积
9. 栅氧化膜的生
特点:
l 快速热处理
l 腔体采用水冷,可进行快速降温
l 真空置换气氛后,可采用流动气氛进行热处理
l 温度程序设置和外部信号输入可以通过脑轻松控制
l 加热过程的温度数据也可以显示在电脑上
l 石英保护板(可选)可以安装在腔室内以防止污染
l 配备了各种安全措施
l 九个独立的加热区可实现不同尺寸样品均匀的温度控制
组成:
1. 红外金面反射炉
2. 加热腔
3. 可编程温控器
4. 9个独立的加热区
5. 跨度变换单元
6. 气体管路系统
7. 热气排出系统
8. 炉体框架,开关板
9. 高温计(可选)
10. 水冷机(可选)
11. 真空泵(可选)
参数:
相关产品
SYMCEL 生物代谢活性微量热仪 CalScreener
Advance Riko高温润湿性及接触角测量仪 WET-1200
SAL-3000Plus ALD原子层沉积系统
SAL3000原子层沉积系统
GMDX-便携拉曼
Mila-5050 2英寸快速退火炉
日本Antares微生物代谢微反应热测试系统
SSP-1000桌面型磁控溅射系统
AGUS-SPS-2000放电等离子烧结系统
SAL1000 系列桌面型ALD原子层沉积系统
SERSTECH一键式手持型拉曼光谱仪100
电弧等离子体沉积系统
AGUS-SPS放电等离子烧系统(Rx系列)
AGUS-SPS放电等离子烧系统(Sx系列)
Advance Riko高温显微镜TMS-E1S
关注
拨打电话
留言咨询