光化学合成缺位型α - 9 - 硅钨杂多化合物及其性质研究

2009/12/23   下载量： 19 次

方案摘要

方案下载
应用领域
检测样本
检测项目
参考标准

　利用光化学方法合成了一种硅钨杂多化合物. 元素分析得到该杂多化合物的分子式为H10 SiW9O34 ·4H2O. 通过UV - Vis, IR, XRD, TG - DTA和电化学等方法对化合物进行了表征,并与H4 SiW12O40杂多酸(记为SiW12 )和标准样品α - H10 SiW9O34 ·4H2O (记为α - HSiW9 )的性质进行比较研究,结果表明标题 化合物为α - H10 SiW9O34 ·4H2O,是一种三缺位的、具有Keggin基本结构骨架的杂多化合物.

方案下载
配置单
上一篇 天津兰力科：罐头中铅检测(电化学工作站)
下一篇 含有p - n单元的苝聚酰亚胺的三元共聚及敏化光电池性能研究

文献贡献者

天津市兰力科化学电子高技术有限公司
银牌会员 丨 第20年
查看全部资料
相关仪器 更多
相关方案
更多

相关产品

当前位置： 天津兰力科 方案 光化学合成缺位型α - 9 - 硅钨杂多化合物及其性质研究

关注

拨打电话

留言咨询