天津兰力科:阴极溶出伏安法测定痕量硒( Ⅳ)

2017/11/07   下载量: 3

方案摘要

方案下载
应用领域 石油/化工
检测样本 其他
检测项目
参考标准 -

采用银基汞膜电极为工作电极,研究了硒( Ⅳ)在0. 10 mol/L HClO4 与1 mg/L Cu ( Ⅱ)离子的电解液中,以硫氰酸根离子为增敏剂的阴极溶出行为,硒浓度在5~30μg/L范围内与其峰电流呈良好的线性关系,并研究了铁( Ⅲ) 、铅( Ⅱ) 、锌( Ⅱ) 、镉( Ⅱ) 、硫( Ⅱ)碲( Ⅳ)等离子对测定硒的干扰问题.

方案下载
配置单
上一篇 天津兰力科:罐头中铅检测(电化学工作站)
下一篇 天津兰力科:改性纳米SiC粉体强化奥氏体不锈钢力学性能和耐腐蚀性能的研究

文献贡献者

相关仪器 更多
相关方案
更多

相关产品

当前位置: 天津兰力科 方案 天津兰力科:阴极溶出伏安法测定痕量硒( Ⅳ)

关注

拨打电话

留言咨询