型号: | MProbe系列 |
产地: | 德国 |
品牌: | Semiconsoft |
评分: |
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产品概述
当一束光入射到薄膜表面时,薄膜上表面和下表面的反射光会发生干涉,干涉的发生与薄膜厚度及光学常数等有关,反射光谱薄膜测厚仪就是基于此原理来测量薄膜厚度。
反射光谱干涉法是一种非接触式、无损的、快速的光学薄膜厚度测量技术。
测量范围: 1 nm - 1 mm
波长范围: 200 nm -8000 nm
光斑尺寸:2mum -3 um
产品特点:
a. 高的测量精度:0.01nm或0.01
b. 准确度:1nm或0.2
c. 稳定性:0.02nm或0.02
d. 强大的软件材料库,包含500多种材料的光学常数
e. 通过Modbus TCP或OPC协议,与其他设备联用
适用于实时在线测量,多层测量,非均匀涂层, 软件包含大量材料库(超过500材料),新材料可以很容易的添加,支持多重算法:Cauchy, Tauc-Lorentz, Cody-Lorentz, EMA等
大部分透光或弱吸收的薄膜均可以快速且稳定的被测量。比如:氧化物,氮化物,光刻胶,高分子聚合物,半导体(硅,单晶硅,多晶硅),半导体化合物(AlGaAs, InGaAs,CdTe, CIGS),硬涂层(碳化硅,类金刚石炭),聚合物涂层(聚对二甲苯,聚甲基丙烯酸甲酯,聚酰胺)
标准配置中包含:
1. 主机(光谱仪,光源,电线)
2. 反射光纤
3. 样品台及光纤适配器
4. TFCompanion软件
5. 校准套装
6. 测试样品,200nm晶圆
多种型号可选,每个型号对应不同的测量范围:
测量n和k值,其厚度范围需在25纳米和5微米之间
广泛的应用于各种工业生产及工艺监控中:
半导体晶圆,薄膜太阳能电池,液晶平板,触摸屛,光学镀膜,聚合物薄膜等
半导体制造:· 光刻胶 · 氧化物 · 氮化物
光学镀膜:· 硬涂层 · 抗反射涂层 · 滤波片
生物医学:· 聚对二甲苯 · 生物膜厚度 · 硝化纤维
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