资料摘要
资料下载NX- 2600 Full Wafer Multi-Level nanoimprintor offers full featured nanoimprint functionality with alignment and high resolution photolithography. Based on unique patented Nanonex ACP technology, the NX-2600 offers unsurpassed uniformity regardless of mask or wafer backside roughness also correcting for wavingand bowing surfaces .
文献贡献者
QI mode
简介：JPK QI™ mode ● 形貌影像：Setpoint Image 与 Zero contact force Image ● 软硬影像：由 Slope 转换成 Young’s modulus 资讯 ● 吸附力影像：由 Adhesion 资讯获得 ● Dissipation 影像：由 Work of adhesion 资讯获得 ● 亦可由其他讯号获得表面其他物性资讯如电流…等
Nanonex纳米压印
简介：纳米压印（NIL，Nano Imprint Lithography）是一种纳米微制造技术，利用该技术，可以将由电子束直写（e-Beam Lithiography）或聚焦离子束（FIB）技术制备的模具的纳米结构通过“印章”的办法转移到基底材质上。纳米压印技术非常重要，产生的压力必须均匀、统一，Nanonex的气体软压印技术非常巧妙的解决了这一问题。纳米压印技术应用领域非常宽广，比较典型的应用包括：生物微流道，光子晶体、OLED（有机电致发光二极管）、有机薄膜晶体管（OTFTs）、亚波长光学元器件等的纳米微制造等。目前国内外有几十家用户采用了Nanonex的压印设备及其技术。 Nanonex 公司的创始人周教授( Prof. Steven Chou/ 普林斯顿大学) 是全球第一个发明的纳米压印设备制造方案的人，目前牢牢占据着纳米压印科研领域的头一把交椅。
Nanonex纳米压印
简介：纳米压印（NIL，Nano Imprint Lithography）是一种纳米微制造技术，利用该技术，可以将由电子束直写（e-Beam Lithiography）或聚焦离子束（FIB）技术制备的模具的纳米结构通过“印章”的办法转移到基底材质上。纳米压印技术非常重要，产生的压力必须均匀、统一，Nanonex的气体软压印技术非常巧妙的解决了这一问题。纳米压印技术应用领域非常宽广，比较典型的应用包括：生物微流道，光子晶体、OLED（有机电致发光二极管）、有机薄膜晶体管（OTFTs）、亚波长光学元器件等的纳米微制造等。目前国内外有几十家用户采用了Nanonex的压印设备及其技术。 Nanonex 公司的创始人周教授( Prof. Steven Chou/ 普林斯顿大学) 是全球第一个发明的纳米压印设备制造方案的人，目前牢牢占据着纳米压印科研领域的头一把交椅。
Nanonex光刻机/紫外光刻机
简介：Nanonex Lumina-200 Stand-Alone High Resolution Photolithography/Aligner. Lumina series offers a high quality, reliable, and cost effective solution for high-resolution, accurate alignment, contact and proximity photolithography in electronic, optoelectronic, MEMS, and many other applications. It has a user friendly interface, high precision stages, high performance optics, and small foot print.
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