资料摘要
资料下载统的光刻工艺中所使用的铬玻璃掩膜板需要由专业供应商提供，但是在研发环境中，掩膜板的设计通常需要经常改变。无掩膜光刻技术通过以软件设计电子掩膜板 的方法，克服了这一问题。与通过物理掩膜板进行光照的传统工艺不同，激光直写是通过电脑控制一系列激光脉冲的开关，在光刻胶上直接曝光绘出所要的图案。 Microwriter ML3 是一款多功能激光直写光刻系统，具有结构小巧紧凑(70cm X 70cm X 70cm)，无掩膜直写系统的灵活性，还拥有高直写速度，高分辨率的特点。采用集成化设计，全自动控制，可靠性高，操作简便。适用于各种实验室桌面。
文献贡献者
超精准可调节温度控制模块-VAHEAT 产品简介
简介：德国INTERHERENCE公司推出的超精准可调节温度控制模块-VAHEAT是一款用于光学显微镜的精密温度控制模块，兼容市面上绝大多数的商用显微镜和物镜。该模块独有的智能基底将透明加热元件与高灵敏度温度探头相结合，实现了在高清成像的同时快速和精确地调节温度，加热速率可达100℃/s，最高温度可达200℃，稳定性0.01℃。该模块尤其适用于生命科学和材料科学中的温度敏感过程研究，如活细胞高分辨成像、DNA生物学、热休克蛋白、相分离等。
聚合物薄膜厚度方向热电性能评价系统ZEM-d-技术介绍
简介：ZEM-d主要测量聚合物薄膜厚度方向上的塞贝克系数和电阻率，可以测量的样品薄为10μm。此外，ZEM-d与采用激光闪光法测量薄膜的热扩散率/导热系数测量方向一致，其测量结果可广泛应用于薄膜热电材料的性能评价。
激光闪光法热常数测量系统-TC-1200RH-技术介绍
简介：日本Advance Riko公司新推出的激光闪光法热常数测量系统（型号：TC-1200RH）使用红外金面炉替代传统电阻炉加热，大大缩短测量时间。可应用于热电材料的研究与开发，及其他材料的热物理性能评价。 TC-1200RH系统采用符合JIS/ISO标准的激光闪光法测定材料的三个重要热物理常数：热导率（导热系数）、热扩散系数及比热容。
纳米薄膜热导率测试系统-TCN-2ω-技术介绍
简介：日本Advance Riko公司推出的纳米薄膜热导率测试系统是使用2ω方法测量纳米薄膜厚度方向热导率的商用系统。与其他方法相比，样品制备和测量为简单。
石墨烯/二维材料电学性质非接触快速测量系统-技术介绍
简介：如何在不破坏样品的前提下，对大尺寸石墨烯等二维材料的电学性质进行准确快速的测量，是在提升样品质量并推进其实际应用中，亟待解决的重要问题。常规的四探针电阻测量法、原子力显微镜、共聚焦拉曼等表征方法存在测量尺寸小、效率低、对样品有损伤等缺点而无法胜任。 西班牙Das Nano公司推出的石墨烯/二维材料电学性质非接触快速测量系统-ONYX，采用非接触式方式，快速准确且高效的实现大尺寸石墨烯等二维材料的无损测量，得到电导率、电阻率、载流子和均匀性等分布信息。此方法同样适用于其他二维材料、半导体薄膜、光伏薄膜的电学性质测量。该方法已经成功应用在西班牙CIC nanoGUNE研究中心等著名高校和企业。 与传统四探针测量法相比，ONYX无损测量样品质量空间分布 与拉曼，AFM，SEM相比，ONYX能够快速表征超大面积样品
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