高温高压光学浮区炉-技术介绍

2020-03-02 17:10  下载量:5

资料摘要

资料下载

国SciDre公司推出的高温高压光学浮区炉能够提供2200–3000℃以上的生长温度,晶体生长腔大压力可达300bar,甚至10-5mbar的高真空。适用于生长各种超导材料单晶,介电和磁性材料单晶,氧化物及金属间化合物单晶等。

资料下载

文献贡献者

相关资料 更多

相关产品

当前位置: QUANTUM量子科学 资料 高温高压光学浮区炉-技术介绍

关注

拨打电话

留言咨询