纳米压痕/划痕方法研究ITO薄膜的力学性质

2009/11/26   下载量： 226 次

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氧化铟锡(Indium Tin Oxide,ITO)透明导电薄膜作为一种把光学透明性能与电学导电性能结合在一体的光电材料，在光电器件中扮演着重要的作用。本文提出了采用球形压头及划痕方法，以测定其在高分子基底上时，薄膜的纳米力学性能如开裂及膜基结合的强度等。

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