| 型号： | Rave光罩雾化污染去除系统Rhazer及先进光罩修复系统nm450 |
| 产地： | 美国 |
| 品牌： | Rave |
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Rave 公司成立于1996，是专业从事开发和生产先进光罩修复（Advanced Mask Repair）及光罩雾化污染去除系统 ( Haze Removal)的设备供应商。目前，Rave在光罩领域的市场占有率已达到世界第一，成为了这一行业的领导者和开拓者。
光罩雾化污染去除系统 Rhazer
◆雾化污染的去除率高：100% （只去除污染物，无需去除表面薄膜），无相位角损失；
◆光罩材料：Chrome, MoSi, Quartz； 尺寸：150mm x 150mm x 25mm；
◆高效：干法工艺，无需除去薄膜；
◆低CoO：极大地提高了Haze污染的管理效率和光罩使用周期，提升良率；
◆全自动化运行，占地面积小，无有害气体或液体，无需消耗去离子水、酸液等化学品。
先进光罩修复系统nm450
◆适用于各种类型的纳米级光罩的修复并有助于32nm光罩的研发；
◆独立的材料合成以及材料接触面控制（Chrome, MoSi, Quartz, EUV, Foreign Materials）。无需复杂的工艺气体、操作及应用十分方便、全自动运行模式、便利的操作界面控制；
◆极强的深度控制--（z）控制，3 nm (3Σ from Target) 适用于所有材料；
◆边缘的布置--5 nm (3Σ from Target)，适用于所有材料；
◆重复修补及平面材料去除能力保证了非常宽的“through focus” 传送窗口；
◆在光罩修复领域nm450的市场占有率为全球第一。
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