LC残余气体分析仪

仪器简介：
LC系列有出色的性能价格比,非常适用于过程压力低于10exp-4Torr的检漏和残余气体分析;使用开放式离子源,质量数测量范围1-100AMU或1-200AMU,数据有多种显示模式:质谱图,棒状图(省略分辨率信息),趋势图(信号随时间的变化),检漏模式,列表模式,指针模式等;用户可对上述显示方式进行任意组合并保存,方便使用;软件还自动生成日志文件,记录灯丝状态,报警事件等,仪器开/关,方便管理

技术参数：
质量数测量范围:1-100AMU/1-200AMU
样品压力范围:10exp-4Torr至高真空
最小可检分压：5exp-12Torr;如使用电子倍增器,最小可检分压降至5exp-14Torr
分辨率:0.5AMU(10%峰高)
灯丝发射电流:0.1-10mA;除气时50mA
电子能量:30-150V,除气时200V
离子能量:1-10V
灵敏度:2exp-4A/Torr(法拉第筒);测量条件是氮气的分子离子峰,0.5AMU峰宽(10%峰高),1mA发射电流
稳定性:质量数 ±0.1AMU(30分钟预热)
峰高 ±2%(30分钟预热)

主要特点：
性能出色,价格很有竞争力,非常适用于半导体和薄膜沉积过程中的检漏和残余气体分析
软件支持多种数据显示方式
四极杆参数可自动优化
内置谱图,帮助确认组分