大面积金刚石自支撑膜机械抛光新技术2

2008-10-10 14:51  下载量:17

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2. 试 验 金刚石自支撑膜是由本实验室的100KW 级高功率直流电弧等离子体溅射化学气相沉积系统制备而成,沉积金刚石自支撑膜的工艺参数如表1 所示。 Table 1 Depositing parameters of the diamond thin film 功率 KW 15 沉积室压强 KPa 4.2 基体温度 ℃ ~950 H2 流量 SLM 8 CH4 流量 SCCM 120 Ar 流量 SLM 2 沉积时间 hour 80 基体 Mo 金刚石自支撑膜的直径为φ60mm,厚度为1mm,生长面的最初粗糙度Ra 大于12μm,并且表面生长不均匀,呈现起伏不平的形貌特征。 抛光设备选用沈阳科晶设备制造有限公司的UNIPOL-1502A 型自动研磨抛光机,该设备可无级调速,试样加载为载物盘自身重力加载,铸铁盘选平面盘或带槽平盘,还可同时加工3 个试样达到小批量生产的能力。该设备研磨盘旋转平稳,φ380mm 的研磨抛光盘的跳动范围在5~10μm,对试样损害小。 金刚石粉选用高温高压爆炸法制备的筛选粉,粒度级别分别是100/120、140/170、200/230,采用加水研磨,金刚石粉可部分回收。 本实验旨在探索新的设备的工艺参数,故尝试不同的转速,不同的金刚石粉颗粒尺寸,不同表面形状的研磨盘,工作固定的时间段,选择最大磨削量的工艺参数作为结果参数。

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