方案摘要
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4. 结 论 长期以来本实验室在进行金刚石自支撑膜后续加工的领域里碰到的难题是磨削速率太 低，安全性也低，容易损坏样品，从而大大增加了研究成本，实际应用方面也受到阻碍。 这次选用新的设备使用最简单的方法，磨削速率有了很大的提高。又加上金刚石粉可以回 收再利用，从而降低了后续加工的成本。通过本次新工艺的探索，得出以下结论： 1) 带槽盘的粗抛效果好，磨削速率大，平面盘的细抛效果好，有利于表面粗糙度的 降低。在金刚石自支撑膜研磨初期，使用带槽盘进行粗磨，到达一定粗糙度之后 选用平面盘进行细磨。 2) 不同的金刚石粉颗粒尺寸都对应有一个磨削效果最好的转盘转速，一般是使得金刚石粉能够在研磨带上均匀分布的转速范围，充分利用金刚石粉的磨削能力。如本试验的200/230 粒度对应的35r/min，140/170 粒度对应的20～25r/min，100/120 粒度对应的20～25r/min。 本次试验所进行的磨抛工序是粗抛和细抛，精抛工艺需后续工作进一步探索。同时，本试验过程中发现，新的设备和工艺虽然能提高磨削速率，降低表面粗糙度，但是不能改变金刚石自支撑膜的初始平面度，只会在原有平面度的基础上进行抛光处理。然而平面度 对金刚石自支撑膜的应用也有着较大的影响，所以有待进一步探索研究金刚石自支撑膜的平整技术。
文献贡献者
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