型号: | INM200 |
产地: | 德国 |
品牌: | 徕卡 |
评分: |
|
LEICA INM 200 显微镜是晶圆与光罩检视的最佳光学显微镜(包括液晶显示板LCD,光碟CD,硬碟Hard-disc,品管与制程管理应用,目前,也包括许多微机电应用MEMS, Nanotechnology ) ,是先进的半导体厂或电子厂所必备的设备.具有Leica独家的新一代的HC ( Harmonic Contrast )光学技术, UV ( 120 nm )技术,以及DUV ( 80 nm )技术.提供最佳光学平衡管理,超高光学解析,让你看到次微米解析,达到光学解析理论的极限.使用上最具人性化的人因公学设计,自动化控制提供最高的投资与使用效益. Class-1的规划,合符新一代的半导体制程所需.
Leica INM200 is Fully automatic measurement and inspection microscope for routine inspection and defect analysis for the multimegabit chip generation.
Features:
• Ergonomic
• 8”/200MM wafer capability
• Unique features of the INM200 , excellent for visualizing extremely fine detail.
• Objective magnifications from 1.6x to 250x and magnification changer
• Resolution down to 0.13um
• Full automation
• Wafer handlers available
• Mask and Wafer Inspection
• Laser Auto focus
• RS232 Interface for remote control
• Confocal, UV and DUV Systems
• BF, DF, Interference contrast fluorescence
相关产品
关注
拨打电话
留言咨询