描述:
QHC系列是由红外线金面反射炉,高精度数字温度控制器,石英加热室所构成的高速加热及冷却装置
用途:
用气氛热处理研究各种基础材料
高温气体的骤冷热处理。
热循环试验,热冲击试验
半导体材料的烧成,退火条件研究
2英寸硅片的退火条件研究
控制气氛的氧气量对超导材料的退火条件研究
特长:
具有宽域的温度加热范围,多种加热方式。
标准的气体冷却控制系统,在温度加热(保持)后,可容易的控制通入的骤冷及冷却气体。 使用选择部件真空排气装置,试样可在真空,各种气体,流动气体中加温。
技术指标:
型号 |
VH,QH(C)-E410系列 |
VH,QH(C)-E610系列 |
VH,QH(C)-E616系列 |
加热方式 |
红外线金面反射炉 |
红外线金面反射炉 |
红外线金面反射炉 |
最高到达温度 |
1400 ℃ |
1200 ℃ |
1200 ℃ |
常用最高温度 |
1000 ℃ |
1000 ℃ |
1000 ℃ |
加热区 |
φ15mm×100mmL |
φ50mm×100mmL |
φ50mm×150mmL |
均热区 |
φ10mm×80mmL |
φ15mm×80mmL |
φ40mm×120mmL |
冷却方式 |
试样室内石英喷嘴式 |
加热室 |
石英φ50mm |
石英φ98mm |
石英φ98mm |
试样保护管 |
石英 |
石英 |
石英 |
气体控制器 |
标准装置 |
标准装置 |
标准装置 |
温度控制器 |
TPC系列 |
TPC系列 |
TPC系列 |
电源容量 |
AC200V1φ10KVA
AC100V / 10A |
AC200V1φ15KVA
AC100V / 10A |
AC200V1φ20KVA
AC100V / 10A |
所要冷却水 |
8L/min (0.2MPa)以上 |
10L/min (0.2MPa)以上 |
12L/min (0.2MPa)以上 |
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