制备多晶硅太阳电池的氮化硅涂层沉积设备

参考价：¥5万 - 10万

型号：	SiNx－PECVD
产地：	美国
品牌：	MVSystems
评分：

核心参数

产地类别：进口

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PECVD MVS

产品详情

用于制备多晶硅太阳电池的氮化硅涂层沉积设备 MVS

Silicon Nitride Coating Systems for Multi-crystalline Silicon Solar Cells

Throughput: >475 wafers/hr

SiNx uniformity: < ?5%

产率：>475硅片/小时。

氮化硅膜不均匀性：< 5%。

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