电子元器件产品null检测 | 等离子增强原子层沉积系统沉积高均匀性和高保型性介电薄膜-广州竞赢化工科技有限公司

方案摘要

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应用领域	电子/电气
检测样本	电子元器件产品
检测项目
参考标准	薄膜均匀性检测

★超薄，纳米尺度介电薄膜与金属／金属性薄膜是MEMS/NEMS器件、其它IC部件，传感器，光学器件或催化剂关键部件 ★IC业中的高精度30器件，如高深宽比沟槽与穿透性硅通孔， ALO工艺是唯可以在这些器件上实现高保形，平整，无缺陷，无针孔的薄膜材料。 ★可规模化生产的ALO工艺，几种金属／金属性材料与介电材料： Pt, Ir, Ru, Cu, Ag, Au, TiN, AIN, TiAIN, ln203与Al203. ★沉积工艺可选：传统热ALO或者等离子增强ALD。

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配置单

原子层沉积系统
型号：R系列

¥180万
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方案详情

★超薄，纳米尺度介电薄膜与金属／金属性薄膜是MEMS/NEMS器件、其它IC部件，传感器，光学器件或催化剂关键部件

★IC业中的高精度30器件，如高深宽比沟槽与穿透性硅通孔， ALO工艺是唯可以在这些器件上实现高保形，平整，无缺陷，无针孔的薄膜材料。

★可规模化生产的ALO工艺，几种金属／金属性材料与介电材料： Pt, Ir, Ru, Cu, Ag, Au, TiN, AIN, TiAIN, ln203与Al203.

★沉积工艺可选：传统热ALO或者等离子增强ALD。

文献贡献者

广州竞赢化工科技有限公司

金牌会员丨第16年

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