Micro OLED用ALD设备

Micro OLED用ALD设备

参考价：面议
型号： GuD
产地： 韩国
品牌： NCD
评分：
核心参数
南京伯奢咏怀电子科技有限公司
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产品详情


应用：

  • 柔性基板镀层(Al2O3) 

  • 穿透率(water vapor transmission rate) of<5.0x10-4 g/m2

  • 用于Micro OLED沉积(Al2O3)

  • 适用工业化大批生产


优势：

  • 高产能 :>10 wafer/hour (Ref.: 30k/month, Tact Time: 1min @50nm)

  • 基板尺寸 :≤12 inch


特点：

  • 先进的工艺kit及紧凑的反应室, 以实现短的反应气体循环周期

  • 极其实现化的原子层沉积机制

  • 小的占用面积

  • 综合集成化的工艺单元模组

  • 简便的工艺控制



南京伯奢咏怀电子科技有限公司为您提供NCDMicro OLED用ALD设备GuD，NCDGuD产地为韩国，属于原子层沉积设备，除了Micro OLED用ALD设备的参数、价格、型号、原理等信息外，还可为您提供更多原子层沉积设备,McScience中国代表处客服电话400-860-5168转1730，售前、售后均可联系。

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