多功能原子层刻蚀系统

多功能原子层刻蚀系统

参考价：面议
型号： Lucida M200PL
产地： 韩国
品牌： NCD
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核心参数
南京伯奢咏怀电子科技有限公司
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ALE(Atomic layer etch)和ASD(area selective deposition)设备.


-设备由2个Process module 和传送用 Transfer module 构成的 Cluster type。 并使用工艺整合一体化程序.
-拥有500℃以上高温及臭氧和等离子工艺能力,专为开发半导体元件的次世代的设备. 
ALE(原子层刻蚀)设备区别ALD(原子层沉积)设备是一款可利用原子层单位刻蚀沉积膜的设备,ASD(区域选择沉积)区别ALD(原子层沉积)则是选择性指定区域原子层沉积的设备.


目前很多学校,研究所以及企业采用ALE和ASD工艺积极研发未来最尖端集成元件.

南京伯奢咏怀电子科技有限公司为您提供NCD多功能原子层刻蚀系统Lucida M200PL，NCDLucida M200PL产地为韩国，属于进口原子层沉积设备，除了多功能原子层刻蚀系统的参数、价格、型号、原理等信息外，还可为您提供更多原子层沉积设备,McScience中国代表处客服电话400-860-5168转1730，售前、售后均可联系。

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