CP-4化学机械抛光设备
CP-4化学机械抛光设备

CP-4化学机械抛光设备

参考价：面议
型号： CP-4
产地： 美国
品牌： 布鲁克
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北京亿诚恒达科技有限公司
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产品详情

CP-4化学机械抛光设备

CP-4是世界最通用和最先进的台式化学机械抛光设备（CMP），可以很好的满足您的研发需求。完全软件控制，可以对直径4英寸的晶圆和磁盘进行抛光。 CETR-CP-4可检测原位摩擦力，摩擦系数，温度，下压力，磨损，声发射等，可以模拟所有的参数，如速度，负载和流量，来模仿一个大的CMP系统。


用于化学机械抛光的研究和开发的各个方面
• 测试和开发各种不同的微粒，材料，浓度，氧化剂，抑制剂等的抛光液
• 测试和开发不同的材料，沟槽形状，尺寸，弹性，寿命等
• 测试和发展抛光垫调节装置来优化抛光垫的损耗率，修整，效率等
• 开发CMP定位环材料来优化摩擦，磨损，寿命等
• 测试去除率，重复性缺陷，工艺优化等，研究或开发各种应用的各种材料
• 半导体方面 - 铜，Ta, TaN, Al, Si, SiO, Ru, WC, solar cells, PVD, CVD, 薄膜等
• 化合物半导体 - 砷化镓，铟，磷化物，汞，镉
• 应用生物材料 - 牙，骨，钛，钢铁制品等。
• 光电材料 – LED，蓝宝石，红外窗口抛光激光材料，显微镜头，微光学，铌酸锂，钽酸锂，磷酸氧钛钾等。

同时实时监测及处理
• 通过在晶圆垫和调节垫界面处的拥有专利的传感器，测量负载和摩擦力，
• 通过在晶圆垫和调节垫界面处的拥有专利的传感器和放大器，测量接触噪声
• 使用声波表征的缺陷、划痕，并在加工过程中分层
• 监测流入的抛光液，抛光片表面和流出废液的温度 .

北京亿诚恒达科技有限公司：

北京亿诚恒达科技有限公司为您提供布鲁克CP-4化学机械抛光设备，布鲁克CP-4产地为美国，属于其它行业专用，除了CP-4化学机械抛光设备的参数、价格、型号、原理等信息外，还可为您提供泥浆冲蚀磨粒磨损试验机、光学探针双模式轮廓仪/三维形貌仪,亿诚恒达客服电话400-860-5168转1965，售前、售后均可联系。

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