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CMP 工艺与材料表征系统：

化学机械抛光（CMP）是半导体器件制造和许多其它先进技术采用的材料平坦化和平滑化工艺。研发人员不断研究如何利用CMP开发新材料、新器件和提高器件集成度。

CMP工艺的研究具有挑战性，主要是由于抛光垫、抛光液、修正方法、工艺配方设置和许多其它变量之间相互作用的复杂性。另外，所有主要的反应都是瞬态的，无论在单一测试周期内还是不同测试周期之间，这进一步加大了 CMP工艺研究的复杂性。

凭借上一代产品CP-4超过20年的CMP表征经验， TriboLab CMP 经过全新的设计，具有卓越的准确性和可重复性，是市场上唯一的CMP工艺开发仪器，可以大范围地测量抛光压力（0.05-50 PSI）、速度（1到500RP- M）、声发射、摩擦、和表面温度，全面准确地表征CMP 工艺和耗材。

专业的研发用小型ＣＭＰ系统

全面再现硅片抛光工艺条件提供无与伦比的测量重复性和细节使用小硅片样品而不是整个硅片作测试，节省大量成本

在线实时诊断，可以更好地了解抛光过程更好地观测瞬时抛光特性。收集整个测试过程的数据，从硅片基底接触抛光垫开始到测试结束提供更完整、更详细的数据，帮助工艺开发早期做决定

灵活的样品类型、尺寸、和安装配置提供最广泛的适用性

可抛光任何平面材料，使用任何修正盘，抛光液和抛光垫
可容纳小硅片样品到100mm 硅片接受多样品夹具

北京亿诚恒达科技有限公司为您提供（CMP）- 化学机械抛光，null化学机械抛光产地为韩国，属于其它行业专用，除了（CMP）- 化学机械抛光的参数、价格、型号、原理等信息外，还可为您提供null,亿诚恒达客服电话400-860-5168转1965，售前、售后均可联系。

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工商信息

信息已认证

企业名称: 北京亿诚恒达科技有限公司
企业类型:
信用代码: 110116013801928
成立日期: 2011年04月21日
注册资本: 100
经营范围: 计算机软件开发、技术咨询、技术交流;维修机电设备;计算机技术培训;货物进出口、技术进出口、代理进出口;销售仪器仪表、电子产品、机械设备、化工原料及产品(不含危险化学品、一类易制毒化学品)、五金交电。(依法须经批准的项目,经相关部门批准后依批准的内容开展经营活动。)

型号：	化学机械抛光
产地：	韩国
品牌：
评分：

（CMP）- 化学机械抛光

CMP 工艺与材料表征系统：

专业的研发用小型ＣＭＰ系统

灵活的样品类型、尺寸、和安装配置提供最广泛的 适用性

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