| 供货周期： | 一周 |
| 品牌： | 新兴百瑞 |
| 货号： | 1180384 |
氮化硅膜主要用于纳米技术研究；支撑强度高，TEM与原子力电镜都可以使用。氮化硅膜极其稳定可以抵抗温度变化上升至1000摄氏度；但是，疏水性，如果需要亲水，建议用刻蚀法：等离子刻蚀，增加电荷。膜厚：100nm、50nm、30nm；孔：1mm×mm 膜粗糙度2nm。
型号 | 名称 | 硅框架厚度（μm） | 窗口尺寸（mm） | 膜厚（nm） | 孔厚 | 包装/个 | 产地 |
| 21505-10 | 氮化硅膜 | 200 | 0.25 x 0.25mm | 50 | 1 | 10 | 美国 |
| 21500-10 | 氮化硅膜 | 200 | 0.5 x 0.5 | 50 | 1 | 10 | 美国 |
| 21502-10 | 氮化硅膜 | 200 | 1.0 x 1.0mm | 50 | 1 | 10 | 美国 |
| 21525-10 | 氮化硅膜 | 200 | 0.25 x 0.25mm | 200 | 1 | 10 | 美国 |
| 21522-10 | 氮化硅膜 | 200 | 1.0 x 1.0mm | 200 | 1 | 10 | 美国 |
| 21524-10 | 氮化硅膜 | 200 | 0.1 x 1.5 | 200 | 2 | 10 | 美国 |
| 21528-10 | 氮化硅膜 | 200 | 0.1 x 1.5 | 200 | 2 | 10 | 美国 |
| 4112SN-BA | 氮化硅膜 | 200 | 1.0 x 1.0 | 200 | 1 | 10 | SPI |
| 4120SN-BA | 氮化硅膜 | 200 | 0.5 x 0.5 | 200 | 1 | 10 | SPI |
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