供货周期: | 一周 |
品牌: | 新兴百瑞 |
货号: | 1180384 |
氮化硅膜主要用于纳米技术研究;支撑强度高,TEM与原子力电镜都可以使用。氮化硅膜极其稳定可以抵抗温度变化上升至1000摄氏度;但是,疏水性,如果需要亲水,建议用刻蚀法:等离子刻蚀,增加电荷。膜厚:100nm、50nm、30nm;孔:1mm×mm 膜粗糙度2nm。
型号 | 名称 | 硅框架厚度(μm) | 窗口尺寸(mm) | 膜厚(nm) | 孔厚 | 包装/个 | 产地 |
21505-10 | 氮化硅膜 | 200 | 0.25 x 0.25mm | 50 | 1 | 10 | 美国 |
21500-10 | 氮化硅膜 | 200 | 0.5 x 0.5 | 50 | 1 | 10 | 美国 |
21502-10 | 氮化硅膜 | 200 | 1.0 x 1.0mm | 50 | 1 | 10 | 美国 |
21525-10 | 氮化硅膜 | 200 | 0.25 x 0.25mm | 200 | 1 | 10 | 美国 |
21522-10 | 氮化硅膜 | 200 | 1.0 x 1.0mm | 200 | 1 | 10 | 美国 |
21524-10 | 氮化硅膜 | 200 | 0.1 x 1.5 | 200 | 2 | 10 | 美国 |
21528-10 | 氮化硅膜 | 200 | 0.1 x 1.5 | 200 | 2 | 10 | 美国 |
4112SN-BA | 氮化硅膜 | 200 | 1.0 x 1.0 | 200 | 1 | 10 | SPI |
4120SN-BA | 氮化硅膜 | 200 | 0.5 x 0.5 | 200 | 1 | 10 | SPI |
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