资料摘要
资料下载制备多晶硅时，用液氨法在低温下产生的硅烷，除主成份Sil 外，尚台H 、微 NH。、 sizH B、cH 、Hzo、oz、N：、PH。，以及痕量的B H 和A sH。等杂质，而其中有些杂质， 如CH．、H zO、Nz等，主要由液氨带入。因此，要加强原材料的分析，严格监控 艺过程 中硅烷气内的有害杂质，采取必要的纯化措施。这样，将大大提高由分解炉中析出的多晶硅 质量。采用气相色谱法分析硅烷及其杂质，由于它具有快速 灵敏、准确、进样量少等优点， 正逐步被人们采用。 本文主要介绍我们工作中用来分析SIH 及其CH
文献贡献者
5A分子筛及其试验标准
简介：本标准规定了5A分子筛的技术要求、试验方法、检验规则和成品的包装、标志、贮存与运输。 本标准适用于5A分子筛，该产品的主要用途为化工、石油、天然气及其他工业用气体的干燥和精制。
GBT 14603-2009 电子工业用气体 三氟化硼
简介：GB/T 14603-2009 电子工业用气体三氟化硼》本标准规定了电子工业用三氟化硼的技术要求 、试验方法、检验规则、包装、标志、贮运及安全要求。 本标准适用于以氟气和硼 ...
D4检测器用户手册
简介：PDHID检测器是一个无破坏性（0.01-0.1%电离）和高灵敏的检测器。其最小的检测限在皮克数量级范围，该量程内D4检测器对有机化合物的5次检测其响应值仍呈现线形关系。这个响应值对永久性气体在其检测下限ppb范围内呈现正的响应值（标准电流增加）。
D4-sh14脉冲氦离子化检测器(英文)用户手册
简介：PDHID检测器是一个无破坏性（0.01-0.1%电离）和高灵敏的检测器。其最小的检测限在皮克数量级范围，该量程内D4检测器对有机化合物的5次检测其响应值仍呈现线形关系。这个响应值对永久性气体在其检测下限ppb范围内呈现正的响应值（标准电流增加）。
HP2氦气纯化器Helium Purifier and Nitrogen Purifier Instruction Manua
简介：Valco氦气（HP）纯化器的纯化基质是一种无挥发性的吸附性合金，吸附剂粒子表面有一层氧化膜需通过加热活化，活化过程必须在真空或惰性气体环境下完成，这样可允许氦气在其间自由扩散，防止氧气纯化层的形成，又可以进行杂质气体的吸附。HP的吸附剂材料具有良好的热稳定性，包括两个温度控制范围。
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