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单层石墨烯膜增长方法:CVD合成、质量控制:光学显微镜&拉曼检测,外观(颜色):透明,透明度:>97%,外观(形状):薄,覆盖率:>95%,石墨烯层数:1,厚度(原理上):0.345毫微米,场效应管电子AI203迁移率:2,000cm2/Vs,场效应管SIO2/SI的电子迁移率:4,000cm2/Vs,电阻:170欧姆平方米,晶粒尺寸:约10μm,基材铜铝箔:厚度:18μm、应用程序:石墨烯研究、多功能的电池、电子、航空航天工业、微机电系统和NEMS,微执行器,导电涂料。
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