| 型号： | PLUTO-M |
| 产地： | 上海 |
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PLUTO-M型等离子体表面处理系统是针对于高校，科学研究所和企业实验室，或者小批量生产的创新性企业而研发的创新型实验平台。我们收集了大量客户使用信息，分析应用需求，将多年设计和制造经验应用于小型化，多功能的等离子体表面处理设备。无论是设计理念，零配件的选用，都倾注大量精力。
针对用户不同的需求，我们提供对应配件，在获得常规性能的同时，拥有表面镀膜（涂层），刻蚀，等离子化学反应，粉体等离子体处理等多种能力。
产品特点：
等离子源采用频率为13.56MHz射频发生器，同时具备物理清洗和化学清洗能力。
电源功率为200W，覆盖常规处理需求
创新设计，可调整电极之间距离，调整等离子体浓度和强度，极大提升处理效率和能力
真空腔体和管道连接件均采用316不锈钢，电极6061航空铝合金，配件材质精良，保证设备稳定高效运行
样品处理面积可达125mm（处理面积可达200mm，如有需求请咨询销售人员）
4.3寸工业级触摸屏，操作简单，可设置多种实验参数
性能稳定可靠，质量稳定，自主研发，售后有保障
产品参数:
1. 真空腔规格: 316不锈钢腔体,直径210mm*(深)230mm 约4L
2. 电极：两个自适应平板电极，材质T6061铝合金
3. 电极尺寸：120*135mm 间距20~75mm 可调
4. 等离子体发生器：RF射频发生器，频率：13.56MHz
5. 功率：0-200W连续可调，精度1W
6. 气体控制：针式气体流量阀，标配1路气体
7. 控制方式：4.3寸工业控制触摸屏
控制软件功能：界面显示实时工作状态，
可显示设置值与实际值，便于实时控制。
可自由设置等离子功率，通入气体时间
全手动控制和全自动控制可选
8. 保护装置：一键急停保护按钮
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