方案摘要
方案下载应用领域 | 材料 |
检测样本 | 半导体材料 |
检测项目 | |
参考标准 | 无 |
氧化硅是一种常用的矿物材料,从研磨剂到填料以至作为提高物性用的添加 剂,它有一个广泛的使用范围。 高纯度要求的打磨剂如 CMP 需要次微米级颗粒,通常使用沉淀法或发烟法加 工。最常用的或大颗粒的氧化硅,是把天然原料如砂石或石英进行分类,研磨后再加工的。
30g_L硝酸钡溶液中金属元素的分析
采用升级Olympus共焦显微镜升级实现单分子跟踪和三维纳米成像
时间分辨红外二区活体荧光成像
激光共焦荧光寿命成像系统 FastFLIM
ISS 超分辨激光共焦扫描显微镜Alba-STED
时间分辨小动物活体荧光成像系统 i-NIR-II
ISS 三维纳米成像及单分子跟踪套件
ISS 升级激光共焦扫描显微镜到FLIM/FCS系统
Cryo-77Pro 800k液氮恒温器
HORIBA 荧光光谱仪FluoroLog-QM
Cryo-77 液氮低温恒温器
SLFA-2100/2800 荧光X射线硫分析仪
高分辨阴极射线发光光谱仪 HCLUE
HORIBA 科研级荧光光谱仪 FluoroMax+
液氮杜瓦附件LN2030
77k 光致发光绝对量子效率系统 LN-QE
HORIBA 三维荧光及吸收光谱仪Duetta
滨松sCMOS相机 ORCA-Flash4.0 LT
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