方案摘要
方案下载| 应用领域 | 材料 |
| 检测样本 | 合金 |
| 检测项目 | |
| 参考标准 | / |
Forge Nano 利用粉末 / 颗粒原子层沉积（PALD）技术在粉末表面构筑涂层，所制备的涂层具有：共形，无针孔，均匀的特点。使用 PALD 方法可以制备金属单质，金属氧化物，氮化物，硫化物，磷酸盐，多元化合物以及有机聚合物等涂层。
粉末材料因为较高的比表面积和表面缺陷的限制，存在易团聚，寿命短等缺陷，制约了其应用的发展。为了克服这些缺陷，采用粉体表面改性的方式可极大程度的提升。传统的液相包覆或气相包覆手段都无法实现均匀以及厚度的精密控制，限制了包覆技术的进一步发展。原子层沉积技术（ALD）是一种自限制性的化学气相沉积手段，通过将目标反应拆解为若干个半反应，实现表面涂层的原子层级厚度控制（0.1-100nm）。Forge Nano 独家的粉末包覆方法
文献贡献者
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