尼康与新加坡研究所成立联合研发实验室

　　近日，尼康与新加坡A*STAR微电子研究所(Institute of Microelectronics, IME)宣布达成合作协议，共同建立研发实验室，开发用于半导体芯片制造的先进光刻技术。

　　尼康和IME将在多项技术上进行合作，如以多模式和直接自组装技术来推动ArF深紫外(DUV)干式和浸光式光刻达到20nm以上精度，包含逻辑的针对高级应用，高密度存储器，嵌入式非易失性存储器，高速电子及纳米光子设备，和纳米机电系统。

　　对尼康来说，这是在新加坡业务的一项战略性合作。通过合作，尼康将利用IME先进的研发基础设施、工艺技术和人才，获得在新一代系统上的先机，缩短产品上市的时间。这也是尼康获得未来所需技术的机会，并继续推进ArF光源液浸没式光刻等几个设备节点。

　　合作将加强和扩展IME与业界伙伴、研究机构和大学与院校的合作，研发先进技术，如计量和材料技术。联合实验室也将显示，IME能够通过与业界领先企业的合作，发展本地生态系统，进行先进的研发。

　　尼康精密设备公司总裁Kazuo Ushida表示：“通过此次与IME的合作，尼康将会获得未来加工技术的知识和完整解决方案，这对我们的光刻系统开发是很重要的。我们非常高兴能与亚洲地区最先进的研究机构之一建立合作。”

　　IME执行董事Dim-Lee Kwong教授表示：“联合实验室使IME和尼康增强了研发未来技术的能力。尼康是一个理想的技术合作伙伴，能够帮助IME加强和扩展研发能力来满足行业的需求，联合实验室是新加坡先进半导体技术研发上一个重要的里程碑。”